Процессы на платиновых электродах при катодной поляризации в спиртовом растворе азотнокислого эрбия
- Авторы: Волчек С.А.1, Яковцева В.А.1
-
Учреждения:
- Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники
- Выпуск: Том 60, № 5 (2024)
- Страницы: 341-348
- Раздел: Статьи
- URL: https://snv63.ru/0424-8570/article/view/671368
- DOI: https://doi.org/10.31857/S0424857024050021
- EDN: https://elibrary.ru/qohhtm
- ID: 671368
Цитировать
Аннотация
Обсуждаются процессы, происходящие на платиновых электродах при катодной поляризации в спиртовом растворе нитрата эрбия. Установлено, что максимумы плотности тока на катодной ветви вольтамперограмм соответствуют потенциалам реакций восстановления водорода. Показано, что формирующийся в процессе катодной обработки гелеобразный осадок состава Er(OH)x(NO3)y(С2Н5О)z · nH2O, x + y + z = 3, не является продуктом электронного обмена между катодом и компонентами раствора. Предложен следующий механизм формирования эрбийсодержащего осадка. Сначала реализуется электрохимический процесс катодного восстановления водорода. Этот процесс приводит к ионному дисбалансу и вызывает подщелачивание прикатодного пространства. Тем самым создаются условия для реализации химического процесса формирования гелеобразной гидроокиси эрбия, которая физически адсорбируется на поверхности катода в виде осадка.
Полный текст

Об авторах
С. А. Волчек
Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники
Автор, ответственный за переписку.
Email: volchek@bsuir.by
Белоруссия, Минск
В. А. Яковцева
Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники
Email: yakovtseva@yahoo.com
Белоруссия, Минск
Список литературы
- Reisfeld, R., Application of luminescence spectroscopy in new materials for solar energy utilization, Online Elsevier Reference Module in Chemistry, Molecular Sciences and Chemical Engineering, 2017. https://doi.org/10.1016/B978-0-12-409547-2.11688-9
- Kenyon, A.J., Erbium in silicon, Semicond. Sci. Technol., 2005, vol. 20, p. R65.
- Феклистов, К.В., Абрамкин, Д.С., Ободников, В.И., Попов, В. П. Легирование кремния эрбием методом имплантации атомов отдачи. Письма в ЖТФ. 2015. Т. 41. № 16. С. 52. [Feklistov, K.V., Abramkin, D.S., Obodnikov, V.I, and Popov, V.P., Doping silicon with erbium by recoil implantation, Techn. Phys. Lett., 2015, vol. 41 (8), p. 788.] https://doi.org/10.1134/S1063785015080209
- Kukharchyk, N., Pal, S., Rödiger, J., Ludwig, A., Probst, S., Ustinov, A.V., Bushev, P., and Wieck, A.D., Photoluminescence of focused ion beam implanted Er3+: Y2SiO5 crystals, Phys. Status Solidi (RRL) – Rapid Res. Lett., 2014, vol. 8 (10), p. 880. https://doi.org/10.1002/pssr.201409304
- Drozdov, M.N., Latukhina, N.V., Stepikhova, M.V., Pokoeva, V.A., and Surin, M.A., Oxygen and erbium distribution in diffusion doped silicon, Modern Electronic Mater., 2016, vol. 2, p. 7. https://doi.org/10.1016/j.moem.2016.08.001
- Kimura, T., Yokoi, A., Horiguchi, H., and Saito, R., Electrochemical Er doping of porous silicon and its room-temperature luminescence, Appl. Phys. Lett., 1994, vol. 65, p. 983. https://doi.org/10.1063/1.112169
- Pourbaix, M. Atlas of Electrochemical Equilibria in Aqueous Solutions. Second English Edition. National Association of Corrosion Engineer, 1974, 645 p.
- Методы измерения в электрохимии: в 2 т., под ред. Ю. А. Чизмаджева. М.: Мир, 1977. Т. 1. 588 с.
- Фритц, Дж., Шенк, Г. Количественный анализ. Пер. с англ. Т. Н. Шеховцовой, О. А. Шпигуна; под ред. Ю. А. Золотова. М.: Мир, 1978. 557 с.
- Bard, A.J. and Faulkner, L. R. Electrochemical Methods: Fundamentals and Applications, 2nd ed.; New York: Wiley, 2001, 850 p.
- The Rare Earth Elements Fundamentals and Applications, Atwood D. A., Ed., John Wiley & Sons Ltd, West Sussex, UK, 2012, 629 p.
- Handbook on the physics and chemistry of rare earths, vol.01, Gschneidner K. A., Jr. et al. Eds., Elsevier, 1978, 900 p.
Дополнительные файлы
